（2）需要定期對鈀缸進行速率監(jiān)控，利用原子吸收的分析方法檢測鈀缸中各物質(zhì)濃度是否處于正常狀態(tài)下；

（3）必須對經(jīng)過鎳缸的產(chǎn)品進行監(jiān)控，發(fā)生漏鍍的產(chǎn)品不可以進入鈀缸；

（4）嚴格控制鈀缸溫度，過高的溫度會導致鈀的異常析出；

（5）鈀缸必須每周進行倒缸并硝槽清洗，以防止鈀的析出。

3.金缸的管控

化學浸金屬于置換反應，當金厚達到一定程度時反應自然終止，普通的化學浸金易于控制，但對于金厚要求較高的產(chǎn)品，通過置換反應得到的金鍍層已經(jīng)無法滿足厚度的要求，必須使用還原性質(zhì)的鍍液進行處理才能滿足客戶要求。與化學鈀一樣，屬于還原體系的鍍液，較難控制，需要嚴格的管控和維護才能確保其相對穩(wěn)定性，可以通過控制絡合劑和還原劑的濃度、溶液體系的溫度、合理使用自動補加使溶液體系更加穩(wěn)定：

（1）金缸長時間加熱會導致還原劑的熱消耗，需要適當補加，但還原劑的補加需少量多次進行，還原劑的過量補加會導致金的析出；

（2）金缸過高的溫度會導致金的析出，需要嚴格監(jiān)制好金缸溫度；